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先端半導体製造に不可欠なEUV市場が活性化

レンテックインサイト編集部

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2020年末ごろから半導体不足が叫ばれるようになり、この1年は国家レベルの半導体支援策が次々と発表されています。そんな中、「半導体を製造するためには非常に多くの作業が必要である」ということはあまり知られていません。

そんな半導体の製造工程において、重要なものの一つが露光です。半導体の製造では、主にシリコンが用いられるウエハーと呼ばれる基材の上に回路を形成するのですが、その回路形成にはフォトマスクと呼ばれる部材が使用されます。表面の遮光膜にごく微細な回路パターンをエッチングした透明なガラス板で、回路をシリコンウエハーに焼き付ける際の原版になります。そしてそこにフォトレジストとよばれる感光剤を組み合わせることで半導体回路を形成していきます。

今回、オリックス・レンテックはEUV市場についてご紹介します。

詳しくは画面右のフォームにご入力いただくと、本ホワイトペーパーをダウンロードいただけます。
ぜひ、ご覧ください。

『先端半導体製造に不可欠なEUV市場が活性化 ホワイトペーパー』目次

  • 半導体露光装置はASMLが唯一のメーカー
  • レジストは日本勢に強み
  • ブランクスや検査装置も日本企業が高シェア

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